El proceso CVD ofrece una pureza y densidad teórica extremadamente altas de recubrimiento de SiC sin porosidad. Con este proceso, Nextgen Advanced Materials suministra una bandeja de grafito recubierta de carburo de silicio con alta calidad y entrega rápida. La personalización también está disponible.
El fabricante Nextgen Advanced Materials INC ofrece la bandeja de grafito recubierta de carburo de silicio de alta calidad. Los recubrimientos de carburo de silicio (SiC) CVD tienen muchas ventajas, incluidas superficies de pureza ultraalta y una resistencia al desgaste extremadamente alta. El proceso CVD puede proporcionar un recubrimiento de SiC con una pureza extremadamente alta y una densidad teórica sin poros. Además, como el carburo de silicio es muy duro, se puede pulir hasta obtener una superficie similar a un espejo.
Debido a que los productos de recubrimiento tienen un rendimiento excelente en entornos de alto vacío y alta temperatura, las bandejas de grafito recubiertas de carburo de silicio son muy adecuadas para la industria de semiconductores y otros entornos ultralimpios. El recubrimiento de carburo de silicio CVD ya se ha aplicado en industrias de semiconductores, como bandeja MOCVD, RTP y cámara de grabado de óxido, ya que el nitruro de silicio tiene una gran resistencia al choque térmico y puede soportar plasma de alta energía.
| Propiedad | |
| Fórmula compuesta | Sic |
| Peso molecular | 40.1 |
| Apariencia | Negro |
| Punto de fusión | 2.730° C (4.946° F) (se descompone) |
| Densidad | 3,0 a 3,2 g/cm3 |
| Material | Grafito, con revestimiento CVD SiC |
| Pureza | >99,99% para revestimiento de SiC |
| Superficie | Porosidad cero |
| Espesor del recubrimiento | 50~500um |
